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设计,系统,应用

第一篇文章包括设计,系统,应用盒子现在已经在线发布了!

贯穿所有文章的共同主题分子系统设计与工程是一种基于分子水平设计或优化的问题解决策略或愿景(通过理论,建模或实验)导致期望的系统级功能和性能。我们希望许多文章将介绍指导和激发跨学科思想的方法论。

这个设计,系统,应用Box让作者们有机会从一般的角度解释他们的分子设计策略,这样读者就可以从它的想法中得到启发。本文还应通过强调所需的系统功能和应用程序潜力,在更广泛的开发故事背景下设置工作。请看日记本特定指南了解更多详细信息。

从论文中看这个例子”基于图案化应力场的SiGe薄膜复合工程建模与仿真“丹尼尔·凯撒,斯瓦帕纳迪普·戈什,桑米汉和塔利德·辛诺。

在这项工作中,作者建立了在机械应力作用下原子扩散的模型。它可用于确定在显示量子限制的SiGe薄膜中创建结构所需的工艺参数。该模型使优化能够为设备应用程序创建特定的结构。这是对分子工程师工具箱的一个重要补充,作者在解释这一概念及其在分子工程师工具箱中的潜力方面做了大量的工作。设计,系统,应用声明:

设计,系统,应用

表现出量子限制的半导体纳米结构是许多现有光电技术的核心,比如激光和探测器。它们也有可能成为未来量子计算设备的制造途径,密码学和超高密度信息存储。实现这一潜力的一个关键障碍是能够在空间和尺寸高度均匀的半导体基板上制造大量这样的纳米结构。在这里,我们描述并部署了一个预测性多分辨率模型,用于描述大长度和时间尺度上硅-锗合金系统中存在机械应力时的原子扩散。该模型用于研究创建高度结构化的硅锗基片中的纳米级成分分布符合下一代光电器件所需的量子限制特性。明确地,我们研究了一种将纳米压头的图案化模板压在合金基体上的工艺。从而诱导结构应力场,操纵原子扩散以产生所需的成分梯度。该模型用于探测高维过程空间中选择参数的影响。比如压头形状,尺寸,和间距。未来的流程优化将为创建面向广泛设备需求的合成配置文件提供指导。

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文章指南更新

所有分子系统设计与工程条款现在必须包括一个单独的段落(不超过200个字),其中:

  • 解释分子设计或优化策略及其一般用途
  • 强调所需的系统功能和设计约束
  • 突出工作的即时或未来应用潜力。

本段的目的是让杂志广泛的跨学科读者能够阅读,因此,应该以一般的方式来编写,以补充主文本中关于这些方面的更详细的讨论。它不应该复制摘要。

有关更多信息,请参阅日志主页,或者如果你有任何问题,请联系电子邮件.

我什么时候能看到变化?
此更改从现在起生效,适用于所有提交文件。文本将出现在新的“设计”中,系统,所有文章首页的应用程序框,不包括当前发布的内容。

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